Font size
WorksheetsЛекция 1
Total questions: 17
Worksheet time: 17mins
С уменьшением размера наночастицы отношение числа поверхностных атомов к общему числу атомов.
Растет
Уменьшается
Не изменяется
Что из перечисленного не является физическим методом создания наноструктур?
Фотолитография
Коллоидный синтез
Микроконтактная печать
Ковалентно-связанная сборка
В результате облучения плотность отрицательного фоторезиста …
Увеличивается
Уменьшается
Не меняется
Разрешение при бесконтактной теневой фотолитографии … в сравнении с контактной.
Выше
Ниже
Такое же
Разрешение при проекционной фотолитографии … в сравнении с теневой.
Выше
Ниже
Такое же
Недостатком контактной фотолитографии является …
Низкое разрешение
Дорогостоящее производство
Опасность загрязнения и повреждения маски
Преимущество бесконтактной фотолитографии.
Высокое разрешение
Отсутствие загрязнение маски
Высокая производительность
Увеличение длины волны падающего излучения при фотолитографии …
Ведет к улучшению разрешения
Ведет к ухудшению разрешения
Не оказывает влияния на разрешение
Особенностью электронно-лучевой литографии в сравнении с фотолитографией является отсутствие…
Маски
Подложки
Резиста
Что не является причиной ухудшения разрешения в электронно-лучевой литографии?
Упругое и неупругое рассеяние электронов в резисте и подложке
Неупругое рассеяние, порождающее вторичные электроны
Боковая диффузия вторичных электронов
Дифракция электронов
Недостаток рентгеновской литографии.
Необходимость в вакууме
Низкое разрешение
Высокая дифракция
Низкая чувствительность ПММА, который широко используется в качестве резиста
Преимущество литографии с использованием сфокусированного ионного пучка.
Высокая производительность
Отсутствие риска повреждения подложки
Более высокая чувствительность резиста, чем в электронно-лучевой литографии
Для фиксированной длины волны при уменьшении размера щели в фотолитографической системе изображение щели на поверхности фоторезиста
Увеличивается
Уменьшается
Не изменяется
Что не способствует улучшению пространственного разрешения в фотолитографии?
Уменьшение длины волны падающего излучения
Уменьшение числовой апертуры линзы
Уменьшение фактора k1
Электронно-лучевая литография …
Малопроизводительна
Высокопроизводительна
Используется в массовом производстве
Какие сложности возникают при использовании в фотолитографии эксимерного лазера с длиной волны излучения 157 нм (несколько вариантов)
Нельзя использовать кварцевые линзы
Отсутствуют материалы для резиста
Необходимо использовать защитную пленку для резиста
Никаких сложностей не возникает
Рентгеновская маска изготовлена из...
Металл, поглощающий рентгеновские лучи
Диэлектрик
Фоторезист
Стекло
