a minta felületének megtisztítása

a minta alkalmassá tétele optoelektronikai alkalmazásokra

a minta felületének megmunkálása

képalkotás a minta felületéről

nedves marás folyékony marószerrel

ionsugaras marás (FIB)

Bosch-folyamat

kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD)

Mert a lúgos marószer maga anizotrop.

Mert a szilícium 111 síkjai marásmegállító síkként működnek.

Mert a szilíciumot bóratomokkal adalékoljuk.

Mert az alkalmazott elektromos tér gyorsítja a marószer molekuláit.

egy felületről eltávolítani egyetlen atomi réteget

egy felületre ránöveszteni egyetlen atomi réteget

egy kristály két, kb. egyenlő térfogatú részre való szétválasztása

összetapadt fém és félvezető szétválasztása

a szilíciumlapot, amin a reakció létrejön

a gáztérbe injektált gázokat, amik a reakcióban részt vesznek

a reakciótermékeket

a kivitelezést megelőző szimuláció eredményeit

lúgos nedves marás

Bosch-folyamat

izotrop marás

fotolitográfia

  $$1,76\times10^{13\ }\ \frac{m}{s^2}$$  

  $$1,76\times10^{10\ }\ \frac{m}{s^2}$$  

  $$1,76\ \times10^7\ \frac{m}{s^2}$$  

$$1,76\times10^4\ \frac{m}{s^2}$$  

3,3 nanoszekundum

33 nanoszekundum

330 nanoszekundum

3,3 mikroszekundum

kb. 60 millió m/s

kb. 6 millió m/s

kb. 600 000 m/s

kb. 60 000 m/s