1102 CDT Summer-Test 06

有關後腭封（posterior palatal seal），下列敘述何者錯誤？

• 可防止義齒在說話及咬合時掉落
• 可防止義齒煮聚時發生聚合收縮所引起的縫隙
• 利用印模用蠟（impression wax）印出後腭封的位置與深度約 2 mm
• 在主模型上沿振動線刮出深為1.5 mm的後腭封，對擁有class III的軟腭形態的病患，其位置在振動線後面

關於後腭封閉性（posterior palatal seal）和後障法（postdam），下列敘述何者錯誤？

• 可防止義齒煮聚時發生聚合收縮，造成假牙後緣出現空隙
• 可防止義齒在咀嚼及說話時脫落
• 為提供最佳之後腭封閉性，後腭封閉區應越寬越好
• 在模型上的珠狀區域刻一個1～1.5 mm深的V字型溝，基底寬約1.5 mm

在製作全口義齒時，關於咬合蠟堤（occlusal wax rim）製作的敘述，下列何者錯誤？

• 上顎咬合蠟堤其相對於門牙切緣處（incisal edges），約會落在門齒乳頭（incisive papilla）前緣前方8-10毫米
• 下顎臼齒後墊（retromolar pad）的舌側邊緣與小臼齒區齒槽骨嵴舌側邊緣的連線為下顎咬合蠟堤舌側的界限
• 咬合蠟堤在前牙區與後牙區的寬度不必維持一樣寬
• 咬合蠟堤最好不要用軟性的蠟來製作

有關咬合堤的製作，在咬合堤的高度設計上，下列何者錯誤？

• 前齒部要配合中門齒切緣
• 臼齒部的中間缺損要與鄰接齒的頰側咬頭高度一致
• 游離端缺損，在上顎以鉤狀切跡（hamular notch）上 5-7毫米為基準
• 游離端缺損，在下顎以臼齒後墊（retromolar pad）高度的 1/2來製作

關於製作全口義齒之咬合蠟堤的敘述，下列何者錯誤？

• 應記錄病患之微笑曲線的高度與寬度
• 前牙的咬合平面是平行兩眼瞳孔之連線
• 蠟堤的唇側外形對唇側支撐的影響不大
• 正中線須通過上顎兩正中門齒接觸區

有關全口義齒上顎前牙的排列，由咬合面來看，下列何者錯誤？

• 前牙的排列上顎正中門齒切緣距離門齒乳突（incisive papilla）中點約 8~10 mm
• 上顎六顆前牙要配合齒列弓的型態（arch form）來排列
• 第一個橫顎皺摺（the first transverse palatine rugae）可為正中門齒位置之參考
• 上顎六顆前牙配合試戴好的蠟堤（wax rim）外型來排列

關於選擇適當的咬合器執行製作義齒的考量，下列敘述何者錯誤？

• 選用符合治療需求最簡便的咬合器
• 簡單型咬合器常使用在甘迺迪第三類局部缺牙重建
• 全調節型咬合器只能使用在複雜型全口咬合重建義齒製作
• 半調節型咬合器常使用在甘迺迪第一、二、四類局部義齒重建

下列關於將全口義齒下顎工作模型在咬合器上固定之敘述，何者正確？1須先確立正確之顎間關係 2須使用裂模法 3須利用面弓轉移 4須先建立正確之髁導引度數

• 1
• 14
• 23
• 24

關於裂模法（split cast）的敘述，下列何者錯誤？

• 可把工作模型再次裝戴於煮聚前的相同位置
• 工作模型置入咬合器時，為了使咬合器與工作模型能夠分離，必須先在工作模型形成楔形
• 可使在咬合器上進行煮聚後的義齒咬合調整較容易
• 其過程應使用全可調節式咬合器

有關咬合器髁頭傾斜調節的敘述，下列何者錯誤？

• 可以用下顎前突咬合記錄調節
• 可以根據前牙之水平覆蓋與垂直覆蓋決定
• 可以透過裂模法（split cast）量得
• 會因為咬合器之參考平面不同而改變