TEAT2

TEAT2

Professional Development

30 Qs

quiz-placeholder

Similar activities

TERMODINÁMICA

TERMODINÁMICA

11th Grade - Professional Development

30 Qs

FISICA INAC

FISICA INAC

Professional Development

30 Qs

Performance 6770717

Performance 6770717

Professional Development

33 Qs

FTTS Tema 6

FTTS Tema 6

Professional Development

25 Qs

Desafía tu conocimiento

Desafía tu conocimiento

Professional Development

25 Qs

Fis2_bloque2_calor

Fis2_bloque2_calor

Professional Development

27 Qs

NIVEL 1. Símbolo y estados de oxidación de los elementos

NIVEL 1. Símbolo y estados de oxidación de los elementos

12th Grade - Professional Development

33 Qs

S3 - Examen Nivelación

S3 - Examen Nivelación

KG - Professional Development

35 Qs

TEAT2

TEAT2

Assessment

Quiz

Physics

Professional Development

Practice Problem

Easy

Created by

Ada Burcan

Used 4+ times

FREE Resource

AI

Enhance your content in a minute

Add similar questions
Adjust reading levels
Convert to real-world scenario
Translate activity
More...

30 questions

Show all answers

1.

MULTIPLE CHOICE QUESTION

30 sec • 1 pt

Pentru a obține o lipitură de calitate:

Compușii intermetalici trebuie sa aibă o grosime optimă, grosime data de timpul de lipire recomandat.

c.Stratul de compuși intermetalici trebuie să fie cât mai gros pentru a da rezistență lipiturii.

Compușii intermetalici nu trebuie sa conțină staniu și cupru.

a.Se va evita apariția compușilor intermetalici, care reduc rezistența lipiturii.

2.

MULTIPLE SELECT QUESTION

30 sec • 1 pt

Procedeul tehnologic de realizarea a circuitelor imprimate ce utilizează o mască negativă: (raspunsuri multiple)

a. Se aplică la realizarea circuitelor dublu strat.

b. Folosește o depunere metalică cu rol de fotorezist.

c. Nu utilizează fotorezist.

d. Utilizează o mască de expunere (artwork) care nu conține trasee de circuit.

3.

MULTIPLE SELECT QUESTION

30 sec • 1 pt

Rolul fluxului în contactarea electronică este: (raspunsuri multiple)

a. De a curăța suprafețele ce urmează a fi îmbinate.

b.De a asigura un flux de aer lipsit de vapori în zona aliajului de lipit.

c. De a reduce temperatura de topire a aliajului de lipit.

d. De a îmbunătăți transferul termic și aderența aliajului de lipit la pad și terminal.

4.

MULTIPLE SELECT QUESTION

30 sec • 1 pt

Pentru realizarea zonelor p si n pe o plachetă de siliciu se utilizează: (raspunsuri multiple)

Epitaxia.

Metoda Czochralski.

Implantarea ionică.

Difuzia.

5.

MULTIPLE SELECT QUESTION

45 sec • 1 pt

Media Image

Care din componentele din figura NU se pot lipi corespunzător in val: (raspunsuri multiple)

3.

4.

1.

2.

6.

MULTIPLE SELECT QUESTION

30 sec • 1 pt

Pastele de lipit utilizate la imprimarea prin stencil:

Trebuie să aibă o clasă de dimensiune a bilelor cât mai mică.

Devin mai puțin viscoase sub acțiunea forței racletei.

Devin mai viscoase sub acțiunea forței racletei pentru a realiza imprimări de calitate.

Au un caracter thixotropic.

7.

MULTIPLE SELECT QUESTION

30 sec • 1 pt

Care din următoarele variante de package utilizează contactarea wire bonding?

COB.

MCM-L.

TAB.

Flip chip.

Create a free account and access millions of resources

Create resources

Host any resource

Get auto-graded reports

Google

Continue with Google

Email

Continue with Email

Classlink

Continue with Classlink

Clever

Continue with Clever

or continue with

Microsoft

Microsoft

Apple

Apple

Others

Others

Already have an account?