Trong quá trình photolithography, bước nào sau đây KHÔNG phải là một bước quan trọng?

• Chiếu UV vào lớp photoresist thông qua một mask

• Phát triển (develop) lớp photoresist đã được chiếu để loại bỏ các khu vực không mong muốn

• Tiến hành ăn mòn hoá học (etching) để tạo hình trên đế

• Gia nhiệt (heating) đế để tăng khả năng dẫn điện

Vai trò chính của mặt nạ quang (photomask) trong photolithography là gì?

• Bảo vệ đế khỏi bức xạ UV

• Chuyển cấu trúc 2 chiều lên lớp photoresist

• Loại bỏ các khu vực không mong muốn từ lớp photoresist

• Tăng độ phân giải của hình ảnh chiếu

Mục đích chính của lớp photoresist trong quá trình photolithography là gì?

• Cung cấp điện dẫn cho đế

• Bảo vệ đế khỏi các chất ăn mòn

• Chuyển cấu trúc mong muốn lên trên đế

• Tăng độ phân giải của hình ảnh chiếu

Với photoresist âm, phần bị chiếu UV không bị rửa trôi trong dung môi developer.

• Đúng

• Sai

Trong việc tạo các cấu trúc nano, câu nào sau đây mô tả phương pháp từ trên xuống dưới (top-down) một cách tốt nhất?

• Xây dựng các cấu trúc nano từng nguyên tử một từ đáy lên.

• Bắt đầu với một vật liệu lớn và giảm kích thước của nó để tạo ra các cấu trúc nano.

• Sử dụng phản ứng hóa học để tạo ra các cấu trúc nano từ các tiền chất phân tử.

• Lắp ráp các cấu trúc nano bằng cách sắp xếp các hạt nano theo một mẫu được quy định trước.