WorksheetsPemrosesan material
Total questions: 45
Worksheet time: 35mins
Nanorods adalah contoh material...............
1 Dimensi
2 Dimensi
3 Dimensi
0 Dimensi
Grafena adalah contoh material............
1 D
2 D
3 D
0 D
Grafit adalah contoh material..........
1 D
2 D
3 D
0 D
Graphene quantum dots adalah contoh material..........
1 D
2 D
3 D
0 D
Material dengan ukuran lebih kecil dari 0,1 mikro meter disebut (a)
Sintesis material dengan pendekatan yang mengacu pada pemecahan bulk material menjadi nanomaterial disebut (a)
Sintesis material dengan pendekatan penyusunan atom-atom hingga membentuk kluster disebut (a)
Berikut contoh metode top down, kecuali.........
Litografi berkas elektron
Grinding
Pyrolisis
FIB
Berikut adalah contoh metode bottom up, kecuali..........
Chemical reduction
Electrolytic deposition
Anisotropic dissolution
Coprecipitation
Berikut ini contoh metode sintesis bottom up secara kimiawi adalah..............
Electrolytic deposition
Anisotropic dissolution
FIB
Plant extracts
Berikut ini contoh metode sintesis top down secara fisika adalah..........
Inert gas condensation
Solvothermal
Hydrothermal
Litografi berkas elektron
Jarak antara valence band dan conduction band disebut (a)
Berikut adalah parameter yang harus dikontrol saat pembuatan nanomaterial, kecuali.............
Bentuk
Struktur
Ukuran
Impuritas
"There's plenty of room at the bottom" adalah istilah yang dikemukakan oleh..............
Gerd Binnig
Richard Feynman
Heinrich Rohrer
Erhard Schweizer
Elektron tidak mungkin berada di daerah (a)
Untuk material semikonduktor memiliki nilai energi gap lebih kecil dari (a)
Untuk material isolator memiliki nilai energi gap lebih besar dari (a)
Pada material bulk, pita konduksi dan pita valensi bersifat (a)
Pada material nano, pita konduksi dan pita valensi bersifat (a)
Suatu material yang awalnya berupa bulk kemudian menjadi nanomaterial, maka celah pita pada material tersebut akan lebih (a)
Ditinjau dari kemungkinan adanya defect yang terjadi, metode yang paling baik adalah.................
Top Down
Top Down Physical
Bottom up
Bottom up Chemical
Pada metode sol-gel dapat diklasifikasikan menjadi dua yaitu polymeric dan (a)
Berikut adalah tahapan proses yang terjadi pada sintesis menggunakan metode sol-gel, kecuali.............
Dried gel
Gel
Sol
Dry material
Berikut adalah kelebihan dari metode sol-gel, kecuali............
Mudah dalam proses pembuatannya
Kemurnian tinggi
Menghasilkan particulate yang bagus
Luas permukaan besar
Saat membuat lapisan tipis menggunakan metode spin-coating, ketebalan dari thin film bergantung pada hal-hal berikut, kecuali................
Kecepatan spinning
Waktu dan suhu pemanasan
Waktu spinning
Tipe substrat
Berikut adalah karakteristik dari metode chemical vapour deposition..............
Kemurnian tinggi
Terdapat cacat garis yang terlihat
Digunakan untuk mendeposisi logam
Digunakan untuk mendeposisi Si
Berikut adalah karakteristik dari PVD yaitu................
Kualitas lapisan tipis bagus
Gas reaktif berinteraksi dengan substrat
Kemurnian tinggi
Digunakan untuk mendeposisi dielektrik
Berikut adalah tipe-tipe CVD, kecuali............
Low pressure-LPCVD
High density plasma-HDPCVD
Atmospheric Inert-AICVD
Plasma enhanced-PECVD
Berikut adalah kelebihan dari low pressure CVD, kecuali...........
Step coverage bagus
Penumbuhan lapisan tipis cepat
Membutuhkan das diluent yang sedikit
Produk sisa sedikit
Berikut adalah beberapa metode physical vapor deposition, kecuali............
Sputtering
Laser ablation
Spin coating
Thermal evaporation
Molecular beam epitaxy
Band gap dengan nilai lebih kecil dari 4 eV adalah karakteristik material (a)
Band gap dengan nilai lebih besar dari 4 eV adalah karakteristik material (a)
Elektron yang berada di kulit terluar disebut (a)
Semakin luas permukaan suatu material, maka band gapnya semakin (a)
Makromolekul padat yang larut dalam larutan/pelarut disebut (a)
Larutan koloid yang tersusun dari partikel padat yang berada pada fasa cair disebut (a)
Pembuatan graphene like materials dengan cara melakukan proses reduksi GO merupakan salah satu metode dengan pendekatan (a)
Pembuatan graphene like materials dengan cara melakukan proses ultrasonikasi material grafit merupakan salah satu metode dengan pendekatan (a)
Pembuatan reduced graphene oxide melalui reduksi kimiawi diawali dengan pembuatan material GO yang pada umumnya menggunakan metode berikut, kecuali .......
Brodie
Staudenmaier
Marcano
Hummer
Pembuatan material grafena melalui solvo thermal merupakan metode dengan pendekatan (a)
Pembuatan grafena melalui metode CVD pada umumnya menggunakan temperatur (a) oC
Metode berikut dapat dilakukan untuk memproduksi grafena dalam skala besar, kecuali .........
Reduksi kimiawi
Reduksi elektrokimia
CVD
Solvo thermal
Tujuan dari proses sonikasi pada pembuatan material grafena adalah (a)
Ilmuwan pertama yang membuat material grafena oksida pada tahun 1860 adalah (a)
Berikut adalah agen oksidator yang digunakan pada metode Hummer, kecuali ......
Kalium permanganat
Hidrogen peroksida
Natrium nitrat
Asam sulfat
