Font size
S
M
L
XL
WorksheetsAsesmen 2 (Leaching) 2B
Total questions: 100
Worksheet time: 33mins
Name
Class
Date
1.
Apa definisi leaching dalam hidrometalurgi?
a)
Proses pelarutan selektif mineral dari material padat ke fasa cair
b)
Proses pemisahan mineral secara mekanis
c)
Proses pengendapan logam dari larutan
d)
Proses reduksi oksida logam
e)
Proses flotasi mineral
2.
Apa hasil utama dari proses leaching?
a)
Pregnant Leach Solution (PLS) dan residu
b)
Konsentrat dan tailing
c)
Matte dan slag
d)
Logam murni dan gas
e)
Sinter dan pellet
3.
Reagen leaching yang paling umum digunakan untuk bijih oksida tembaga adalah
a)
H2SO4
b)
NaCN
c)
NH3
d)
NaOH
e)
HF
4.
Apa tujuan utama proses leaching?
a)
Memindahkan logam berharga dari bentuk padat ke bentuk ion terlarut
b)
Menghancurkan bijih menjadi ukuran halus
c)
Memisahkan mineral berdasarkan densitas
d)
Mereduksi oksida logam menjadi logam murni
e)
Meningkatkan kadar mineral dalam bijih
5.
Pada proses leaching laterit dengan HCl yang menghasilkan rekoveri Ni 90%, berapa persen Ni yang tetap dalam residu padat?
a)
0.1
b)
0.9
c)
0.5
d)
0.25
e)
0.75
6.
Rumus rekoveri dalam proses leaching adalah
a)
R(%)=(Ci/C0)×100
b)
R(%)=(C0/Ci)×100
c)
R(%)=(Ci-C0)×100
d)
R(%)=(C0+Ci)/2
e)
R(%)=Ci×C0×100
7.
Lapisan yang mengelilingi partikel padatan pada mekanisme leaching disebut
a)
Film layer
b)
Core layer
c)
Product layer
d)
Surface layer
e)
Matrix layer
8.
Shrinking Core Model (SCM) menggambarkan
a)
Penurunan ukuran inti yang belum bereaksi
b)
Pembengkakan partikel selama leaching
c)
Pemecahan partikel menjadi fragmen kecil
d)
Pembentukan lapisan pelindung permanen
e)
Pertumbuhan kristal pada permukaan
9.
Dalam SCM, lapisan yang terbentuk dari produk reaksi disebut
a)
Ash layer
b)
Film layer
c)
Boundary layer
d)
Core layer
e)
Active layer
10.
Reaksi pada inti (core) dalam SCM terjadi ketika
a)
Reaktan berhasil menembus lapisan film dan abu
b)
Hanya terjadi difusi pada lapisan film
c)
Partikel hancur menjadi bubuk
d)
Tidak ada reaksi kimia yang terjadi
e)
Oksigen tidak tersedia
11.
Model kinetika leaching yang menganggap konsentrasi reaktan konstan pada permukaan inti adalah
a)
Film diffusion control
b)
Ash layer diffusion control
c)
Chemical reaction control
d)
Mixed control
e)
Surface reaction control
12.
Persamaan kt = X menunjukkan model kinetika
a)
Difusi melalui lapisan film
b)
Difusi melalui lapisan abu
c)
Reaksi kimia pada inti
d)
Reaksi redoks kompleks
e)
Perpindahan massa kombinasi
13.
Persamaan kt = 1-3(1-X)^(2/3)+2(1-X) menunjukkan model kinetika
a)
Difusi melalui lapisan abu
b)
Difusi melalui lapisan film
c)
Reaksi kimia pada inti
d)
Difusi molekular
e)
Konveksi massa
14.
Persamaan kt = 1-(1-X)^(1/3) menunjukkan model kinetika
a)
Reaksi kimia pada inti
b)
Difusi melalui lapisan film
c)
Difusi melalui lapisan abu
d)
Perpindahan panas
e)
Adsorpsi permukaan
15.
Energi aktivasi (Ea) dalam proses leaching dapat ditentukan menggunakan
a)
Persamaan Arrhenius
b)
Persamaan Nernst
c)
Persamaan Gibbs
d)
Persamaan Henderson-Hasselbalch
e)
Persamaan Van't Hoff
16.
Dalam persamaan Arrhenius ln k = ln A - (Ea/R)(1/T), slope grafik ln k vs 1/T adalah
a)
-Ea/R
b)
Ea/R
c)
ln A
d)
R/Ea
e)
-R/Ea
17.
Faktor frekuensi (A) dalam persamaan Arrhenius dapat diperoleh dari
a)
Intersep grafik ln k vs 1/T
b)
Slope grafik ln k vs 1/T
c)
Nilai k pada T tertentu
d)
Nilai Ea/R
e)
Gradien kurva X vs t
18.
Satuan energi aktivasi (Ea) yang umum digunakan adalah
a)
kJ/mol
b)
kg/m3
c)
mol/L
d)
atm
e)
Watt
19.
Konstanta gas (R) dalam persamaan Arrhenius bernilai
a)
8.314 J/(mol·K)
b)
1.987 cal/(mol·K)
c)
0.0821 L·atm/(mol·K)
d)
Semua benar
e)
Hanya A dan B
20.
Faktor fisik yang mempengaruhi laju leaching adalah
a)
Ukuran partikel
b)
Konsentrasi pelarut
c)
Jenis lixiviant
d)
Selektivitas reagen
e)
pH larutan
21.
Semakin kecil ukuran partikel maka laju leaching akan
a)
Semakin cepat karena luas permukaan meningkat
b)
Semakin lambat karena difusi terhambat
c)
Tidak berpengaruh
d)
Semakin cepat karena densitas meningkat
e)
Semakin lambat karena porositas menurun
22.
Agitasi dalam proses leaching berfungsi untuk
a)
Memastikan kontak baik antara padatan dan cairan
b)
Menghancurkan partikel bijih
c)
Meningkatkan suhu larutan
d)
Mengendapkan logam
e)
Menguapkan pelarut
23.
Persen solid dalam leaching mengacu pada
a)
Keseimbangan volume antara ore dan pelarut
b)
Kadar logam dalam bijih
c)
Densitas partikel padat
d)
Viskositas larutan
e)
Konduktivitas listrik larutan
24.
Selektivitas lixiviant berarti
a)
Kemampuan melarutkan logam target tanpa melarutkan pengotor
b)
Kemampuan melarutkan semua mineral
c)
Kecepatan reaksi yang tinggi
d)
Biaya yang murah
e)
Ketersediaan yang melimpah
25.
Passivation dalam leaching adalah
a)
Pembentukan lapisan pelindung yang menghambat reaksi lanjut
b)
Peningkatan laju reaksi
c)
Pengendapan logam
d)
Pembentukan kompleks larut
e)
Dekomposisi mineral
26.
Jenis leaching berdasarkan lokasi yang dilakukan langsung di tempat penambangan adalah
a)
In-situ leaching
b)
Heap leaching
c)
Tank leaching
d)
Percolation leaching
e)
Autoclave leaching
27.
Heap leaching cocok untuk
a)
Bijih kadar rendah
b)
Bijih kadar tinggi
c)
Bijih refraktori
d)
Konsentrat murni
e)
Mineral larut air
28.
Tank leaching (agitated) menggunakan
a)
Pengadukan dalam tangki
b)
Tumpukan bijih statis
c)
Injeksi larutan ke bawah tanah
d)
Perkolasi gravitasi
e)
Tekanan atmosferik saja
29.
Autoclave leaching dilakukan pada
a)
Suhu dan tekanan tinggi
b)
Suhu rendah dan tekanan atmosferik
c)
Suhu kamar
d)
Kondisi vakum
e)
Tekanan negatif
30.
HPAL adalah singkatan dari
a)
High Pressure Acid Leaching
b)
High Performance Alkaline Leaching
c)
Heap Pile Agitation Leaching
d)
Hydro Precipitation Alkaline Leaching
e)
High Purity Aluminum Leaching
31.
Lixiviant yang digunakan untuk leaching emas adalah
a)
NaCN
b)
H2SO4
c)
HCl
d)
NaOH
e)
NH3
32.
Reaksi leaching CuO dengan H2SO4 menghasilkan
a)
CuSO4 + H2O
b)
Cu + SO2
c)
Cu(OH)2 + H2
d)
CuCl2 + H2O
e)
Cu2O + H2SO3
33.
Pregnant Leach Solution (PLS) adalah
a)
Larutan kaya logam terlarut hasil leaching
b)
Larutan sebelum leaching
c)
Residu padat leaching
d)
Reagen leaching murni
e)
Air pencuci residu
34.
Diagram Eh-pH yang digunakan dalam leaching disebut
a)
Diagram Pourbaix
b)
Diagram Ellingham
c)
Diagram McCabe-Thiele
d)
Diagram fasa biner
e)
Diagram Arrhenius
35.
Pada diagram Pourbaix, zona larut logam berada pada
a)
pH rendah dan Eh tinggi
b)
pH tinggi dan Eh rendah
c)
pH netral
d)
Eh = 0
e)
Semua pH
36.
Konsumsi asam tinggi dalam leaching dapat disebabkan oleh
a)
Keberadaan gangue mineral yang reaktif
b)
Ukuran partikel terlalu besar
c)
Suhu terlalu rendah
d)
Agitasi terlalu cepat
e)
Konsentrasi logam tinggi
37.
Perkolasi leaching dilakukan dalam
a)
Reaktor dengan medium filter
b)
Tumpukan di lapangan terbuka
c)
Tangki berpengaduk
d)
Autoclave bertekanan
e)
Kolom flotasi
38.
Durasi heap leaching biasanya
a)
Berhari-hari hingga berbulan-bulan
b)
Beberapa menit
c)
1-2 jam
d)
Maksimal 24 jam
e)
Tidak terbatas
39.
Keuntungan heap leaching dibandingkan tank leaching adalah
a)
CAPEX rendah
b)
Waktu proses cepat
c)
Rekoveri lebih tinggi
d)
Cocok untuk bijih kadar tinggi
e)
Tidak memerlukan lahan luas
40.
Leaching pada tekanan atmosferik umumnya dilakukan untuk
a)
Bijih yang mudah larut
b)
Bijih refraktori
c)
Mineral silika murni
d)
Konsentrat sulfida kompleks
e)
Bijih dengan kadar sangat rendah
41.
Reagen leaching basa seperti NaOH cocok untuk
a)
Mineral amfoter seperti Al2O3
b)
Mineral sulfida tembaga
c)
Emas dan perak
d)
Bijih besi oksida
e)
Semua jenis bijih
42.
Thiosulfate dapat digunakan sebagai alternatif pengganti
a)
Sianida dalam leaching emas
b)
Asam sulfat dalam leaching tembaga
c)
Amonia dalam leaching nikel
d)
NaOH dalam leaching alumina
e)
HCl dalam leaching laterit
43.
Faktor yang mempengaruhi kinetika leaching meliputi
a)
Suhu, konsentrasi, ukuran partikel, dan agitasi
b)
Hanya suhu
c)
Hanya konsentrasi
d)
Hanya ukuran partikel
e)
Hanya tekanan
44.
Rekoveri 100% dalam leaching berarti
a)
Semua logam target terlarut ke dalam PLS
b)
Tidak ada logam yang terlarut
c)
50% logam terlarut
d)
Semua pengotor terlarut
e)
Reaksi berhenti di tengah proses
45.
Pemisahan PLS dari residu padat setelah leaching dilakukan dengan
a)
Thickening atau filtrasi
b)
Flotasi
c)
Elektrolisis
d)
Distilasi
e)
Kristalisasi
46.
Rate controlling step dalam leaching adalah
a)
Tahap paling lambat yang menentukan laju reaksi keseluruhan
b)
Tahap paling cepat
c)
Tahap pertama reaksi
d)
Tahap terakhir reaksi
e)
Semua tahap sama pentingnya
47.
Konversi (X) dalam kinetika leaching didefinisikan sebagai
a)
Rekoveri/100
b)
Rekoveri × 100
c)
100/Rekoveri
d)
Rekoveri - 100
e)
100 + Rekoveri
48.
Nilai R² mendekati 1 pada plot kinetika menunjukkan
a)
Model sesuai dengan data eksperimen
b)
Model tidak cocok
c)
Data tidak valid
d)
Reaksi tidak terjadi
e)
Kesalahan pengukuran besar
49.
Pada suhu lebih tinggi, konstanta kecepatan reaksi (k) akan
a)
Meningkat
b)
Menurun
c)
Tetap
d)
Menjadi nol
e)
Berfluktuasi
50.
Metode untuk menentukan rate controlling process adalah
a)
Membandingkan nilai R² dari plot kt vs X untuk tiap model
b)
Hanya mengukur suhu
c)
Hanya mengukur pH
d)
Menggunakan mikroskop
e)
Analisis XRD saja
51.
Apa definisi leaching dalam hidrometalurgi?
a)
Proses pemisahan mineral secara mekanis
b)
Proses pelarutan selektif mineral dari material padat ke fasa cair
c)
Proses pengendapan logam dari larutan
d)
Proses reduksi oksida logam
e)
Proses flotasi mineral
52.
Apa hasil utama dari proses leaching?
a)
Konsentrat dan tailing
b)
Matte dan slag
c)
Pregnant Leach Solution (PLS) dan residu
d)
Logam murni dan gas
e)
Sinter dan pellet
53.
Reagen leaching yang paling umum digunakan untuk bijih oksida tembaga adalah
a)
NaCN
b)
NH3
c)
H2SO4
d)
NaOH
e)
HF
54.
Apa tujuan utama proses leaching?
a)
Menghancurkan bijih menjadi ukuran halus
b)
Memisahkan mineral berdasarkan densitas
c)
Mereduksi oksida logam menjadi logam murni
d)
Memindahkan logam berharga dari bentuk padat ke bentuk ion terlarut
e)
Meningkatkan kadar mineral dalam bijih
55.
Pada proses leaching laterit dengan HCl yang menghasilkan rekoveri Ni 90%, berapa persen Ni yang tetap dalam residu padat?
a)
0.1
b)
0.9
c)
0.5
d)
0.25
e)
0.75
56.
Rumus rekoveri dalam proses leaching adalah
a)
R(%)=(C0/Ci)×100
b)
R(%)=(Ci-C0)×100
c)
R(%)=(Ci/C0)×100
d)
R(%)=(C0+Ci)/2
e)
R(%)=Ci×C0×100
57.
Lapisan yang mengelilingi partikel padatan pada mekanisme leaching disebut
a)
Core layer
b)
Film layer
c)
Product layer
d)
Surface layer
e)
Matrix layer
58.
Shrinking Core Model (SCM) menggambarkan
a)
Pembengkakan partikel selama leaching
b)
Pemecahan partikel menjadi fragmen kecil
c)
Penurunan ukuran inti yang belum bereaksi
d)
Pembentukan lapisan pelindung permanen
e)
Pertumbuhan kristal pada permukaan
59.
Dalam SCM, lapisan yang terbentuk dari produk reaksi disebut
a)
Film layer
b)
Boundary layer
c)
Core layer
d)
Ash layer
e)
Active layer
60.
Reaksi pada inti (core) dalam SCM terjadi ketika
a)
Hanya terjadi difusi pada lapisan film
b)
Partikel hancur menjadi bubuk
c)
Tidak ada reaksi kimia yang terjadi
d)
Reaktan berhasil menembus lapisan film dan abu
e)
Oksigen tidak tersedia
61.
Model kinetika leaching yang menganggap konsentrasi reaktan konstan pada permukaan inti adalah
a)
Ash layer diffusion control
b)
Film diffusion control
c)
Chemical reaction control
d)
Mixed control
e)
Surface reaction control
62.
Persamaan kt = X menunjukkan model kinetika
a)
Difusi melalui lapisan abu
b)
Reaksi kimia pada inti
c)
Reaksi redoks kompleks
d)
Perpindahan massa kombinasi
e)
Difusi melalui lapisan film
63.
Persamaan kt = 1-3(1-X)^(2/3)+2(1-X) menunjukkan model kinetika
a)
Difusi melalui lapisan film
b)
Reaksi kimia pada inti
c)
Difusi melalui lapisan abu
d)
Difusi molekular
e)
Konveksi massa
64.
Persamaan kt = 1-(1-X)^(1/3) menunjukkan model kinetika
a)
Difusi melalui lapisan film
b)
Difusi melalui lapisan abu
c)
Perpindahan panas
d)
Reaksi kimia pada inti
e)
Adsorpsi permukaan
65.
Energi aktivasi (Ea) dalam proses leaching dapat ditentukan menggunakan
a)
Persamaan Nernst
b)
Persamaan Arrhenius
c)
Persamaan Gibbs
d)
Persamaan Henderson-Hasselbalch
e)
Persamaan Van't Hoff
66.
Dalam persamaan Arrhenius ln k = ln A - (Ea/R)(1/T), slope grafik ln k vs 1/T adalah
a)
Ea/R
b)
-Ea/R
c)
ln A
d)
R/Ea
e)
-R/Ea
67.
Faktor frekuensi (A) dalam persamaan Arrhenius dapat diperoleh dari
a)
Slope grafik ln k vs 1/T
b)
Nilai k pada T tertentu
c)
Intersep grafik ln k vs 1/T
d)
Nilai Ea/R
e)
Gradien kurva X vs t
68.
Satuan energi aktivasi (Ea) yang umum digunakan adalah
a)
kg/m3
b)
kJ/mol
c)
mol/L
d)
atm
e)
Watt
69.
Konstanta gas (R) dalam persamaan Arrhenius bernilai
a)
1.987 cal/(mol·K)
b)
0.0821 L·atm/(mol·K)
c)
Semua benar
d)
8.314 J/(mol·K)
e)
Hanya A dan B
70.
Faktor fisik yang mempengaruhi laju leaching adalah
a)
Konsentrasi pelarut
b)
Jenis lixiviant
c)
Ukuran partikel
d)
Selektivitas reagen
e)
pH larutan
71.
Semakin kecil ukuran partikel maka laju leaching akan
a)
Semakin lambat karena difusi terhambat
b)
Tidak berpengaruh
c)
Semakin cepat karena luas permukaan meningkat
d)
Semakin cepat karena densitas meningkat
e)
Semakin lambat karena porositas menurun
72.
Agitasi dalam proses leaching berfungsi untuk
a)
Menghancurkan partikel bijih
b)
Meningkatkan suhu larutan
c)
Mengendapkan logam
d)
Memastikan kontak baik antara padatan dan cairan
e)
Menguapkan pelarut
73.
Persen solid dalam leaching mengacu pada
a)
Kadar logam dalam bijih
b)
Densitas partikel padat
c)
Viskositas larutan
d)
Konduktivitas listrik larutan
e)
Keseimbangan volume antara ore dan pelarut
74.
Selektivitas lixiviant berarti
a)
Kemampuan melarutkan semua mineral
b)
Kemampuan melarutkan logam target tanpa melarutkan pengotor
c)
Kecepatan reaksi yang tinggi
d)
Biaya yang murah
e)
Ketersediaan yang melimpah
75.
Passivation dalam leaching adalah
a)
Peningkatan laju reaksi
b)
Pengendapan logam
c)
Pembentukan lapisan pelindung yang menghambat reaksi lanjut
d)
Pembentukan kompleks larut
e)
Dekomposisi mineral
76.
Jenis leaching berdasarkan lokasi yang dilakukan langsung di tempat penambangan adalah
a)
Heap leaching
b)
Tank leaching
c)
In-situ leaching
d)
Percolation leaching
e)
Autoclave leaching
77.
Heap leaching cocok untuk
a)
Bijih kadar tinggi
b)
Bijih refraktori
c)
Heap leaching cocok untuk
d)
Konsentrat murni
e)
Mineral larut air
78.
Tank leaching (agitated) menggunakan
a)
Tumpukan bijih statis
b)
Injeksi larutan ke bawah tanah
c)
Pengadukan dalam tangki
d)
Perkolasi gravitasi
e)
Tekanan atmosferik saja
79.
Autoclave leaching dilakukan pada
a)
Suhu rendah dan tekanan atmosferik
b)
Suhu kamar
c)
Kondisi vakum
d)
Suhu dan tekanan tinggi
e)
Tekanan negatif
80.
HPAL adalah singkatan dari
a)
High Performance Alkaline Leaching
b)
Heap Pile Agitation Leaching
c)
Hydro Precipitation Alkaline Leaching
d)
High Purity Aluminum Leaching
e)
High Pressure Acid Leaching
81.
Lixiviant yang digunakan untuk leaching emas adalah
a)
H2SO4
b)
HCl
c)
NaOH
d)
NaCN
e)
NH3
82.
Reaksi leaching CuO dengan H2SO4 menghasilkan
a)
Cu + SO2
b)
Cu(OH)2 + H2
c)
CuSO4 + H2O
d)
CuCl2 + H2O
e)
Cu2O + H2SO3
83.
Pregnant Leach Solution (PLS) adalah
a)
Larutan sebelum leaching
b)
Residu padat leaching
c)
Reagen leaching murni
d)
Air pencuci residu
e)
Larutan kaya logam terlarut hasil leaching
84.
Diagram Eh-pH yang digunakan dalam leaching disebut
a)
Diagram Ellingham
b)
Diagram Pourbaix
c)
Diagram McCabe-Thiele
d)
Diagram fasa biner
e)
Diagram Arrhenius
85.
Pada diagram Pourbaix, zona larut logam berada pada
a)
pH tinggi dan Eh rendah
b)
pH rendah dan Eh tinggi
c)
pH netral
d)
Eh = 0
e)
Semua pH
86.
Konsumsi asam tinggi dalam leaching dapat disebabkan oleh
a)
Ukuran partikel terlalu besar
b)
Suhu terlalu rendah
c)
Agitasi terlalu cepat
d)
Keberadaan gangue mineral yang reaktif
e)
Konsentrasi logam tinggi
87.
Perkolasi leaching dilakukan dalam
a)
Tumpukan di lapangan terbuka
b)
Tangki berpengaduk
c)
Reaktor dengan medium filter
d)
Autoclave bertekanan
e)
Kolom flotasi
88.
Durasi heap leaching biasanya
a)
Beberapa menit
b)
1-2 jam
c)
Maksimal 24 jam
d)
Berhari-hari hingga berbulan-bulan
e)
Tidak terbatas
89.
Keuntungan heap leaching dibandingkan tank leaching adalah
a)
Waktu proses cepat
b)
Rekoveri lebih tinggi
c)
Cocok untuk bijih kadar tinggi
d)
CAPEX rendah
e)
Tidak memerlukan lahan luas
90.
Leaching pada tekanan atmosferik umumnya dilakukan untuk
a)
Bijih refraktori
b)
Mineral silika murni
c)
Konsentrat sulfida kompleks
d)
Bijih yang mudah larut
e)
Bijih dengan kadar sangat rendah
91.
Reagen leaching basa seperti NaOH cocok untuk
a)
Mineral sulfida tembaga
b)
Mineral amfoter seperti Al2O3
c)
Emas dan perak
d)
Bijih besi oksida
e)
Semua jenis bijih
92.
Thiosulfate dapat digunakan sebagai alternatif pengganti
a)
Asam sulfat dalam leaching tembaga
b)
Amonia dalam leaching nikel
c)
Sianida dalam leaching emas
d)
NaOH dalam leaching alumina
e)
HCl dalam leaching laterit
93.
Faktor yang mempengaruhi kinetika leaching meliputi
a)
Hanya suhu
b)
Hanya konsentrasi
c)
Suhu konsentrasi reaktan ukuran partikel dan agitasi
d)
Hanya ukuran partikel
e)
Hanya tekanan
94.
Rekoveri 100% dalam leaching berarti
a)
Tidak ada logam yang terlarut
b)
50% logam terlarut
c)
Semua pengotor terlarut
d)
Semua logam target terlarut ke dalam PLS
e)
Reaksi berhenti di tengah proses
95.
Pemisahan PLS dari residu padat setelah leaching dilakukan dengan
a)
Flotasi
b)
Elektrolisis
c)
Distilasi
d)
Thickening atau filtrasi
e)
Kristalisasi
96.
Rate controlling step dalam leaching adalah
a)
Tahap paling cepat
b)
Tahap pertama reaksi
c)
Tahap terakhir reaksi
d)
Tahap paling lambat yang menentukan laju reaksi keseluruhan
e)
Semua tahap sama pentingnya
97.
Konversi (X) dalam kinetika leaching didefinisikan sebagai
a)
Rekoveri × 100
b)
100/Rekoveri
c)
Rekoveri/100
d)
Rekoveri - 100
e)
100 + Rekoveri
98.
Nilai R² mendekati 1 pada plot kinetika menunjukkan
a)
Model tidak cocok
b)
Data tidak valid
c)
Reaksi tidak terjadi
d)
Model sesuai dengan data eksperimen
e)
Kesalahan pengukuran besar
99.
Pada suhu lebih tinggi, konstanta kecepatan reaksi (k) akan
a)
Menurun
b)
Tetap
c)
Meningkat
d)
Menjadi nol
e)
Berfluktuasi
100.
Metode untuk menentukan rate controlling process adalah
a)
Hanya mengukur suhu
b)
Hanya mengukur pH
c)
Menggunakan mikroskop
d)
Membandingkan nilai R² dari plot kt vs X untuk tiap model
e)
Analisis XRD saja
Reset
