
Examen final 3er año Protesis Bucal e implantología
Authored by Bertha Alicia Pérez Gutiérrez
Science
7th Grade
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1.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
1.-Registrar la posición tridimensional de los implantes en el arco dental, su inclinación y sus relaciones con otros implantes o estructuras (dientes, cresta ,tejido blando) de manera exacta y precisa es el propósito de?
La impresión
La prueba de la estructura
La confección del provisional sobre implantes
La personalización de la cofia
2.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
2.-Es la situación en la cual no existe interfase entre la superficie del implante y la supraestructura sin que se produzcan fuerzas desfavorables
Discrepancia marginal
Soldado en frio
Sin desajuste
3.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
3.-Puede generar tensión y movimiento entre los componentes y será precursor de complicaciones mecánicas y biológicas (aflojamiento de tornillos, fractura de componentes, pérdida de hueso marginal)
Pérdida de oseointegración
Falta de ajuste pasivo
No conseguir buena estabilidad primaria
Periimplantitis
4.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
4.-Es el rango de discrepancia aceptada de Ajuste pasivo segun los autores Jemt y May ya que no causaria alguna complicación clínica a largo tiempo.
0 a 15 µm
20 a 40 µm
70 a 95µm
100 a 150 µm
5.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
5.-Para corroborar el ajuste pasivo será necesario el ajuste de un tornillo en el extremo de la barra, para observar qué ocurre en el otro extremo
Prueba de visión directa y sensación táctil
Prueba radiográfica
Prueba de Sheffield
Prueba de Alternar presión digital
6.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
6.-Mientras más angulados se encuentren los implantes mas difícil será obtener una impresión exacta de ellos.
Cierto
Falso
7.
MULTIPLE CHOICE QUESTION
30 sec • 1 pt
7.-Al tomar una impresión a cucharilla abierta en implantes múltiples estos materiales presentan las mejores características
Alginato y Agar-Agar
Hule de polisulfuro consistencia media y fluida
Polivinil siloxano y poliéter
Silicón por condensación y pasta zinquenólica
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